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無塵室中的溫濕度控制要求
無塵室是溫濕度主要是根據(jù)產(chǎn)品需求的生產(chǎn)工藝來確定,而且在滿足產(chǎn)品工藝要求的同時還要考慮到工作人員的舒適度。隨著無塵室空氣潔凈等級的提升,各類工藝對于溫濕度的要求也越來越嚴格。
總得來說,產(chǎn)品的加工精度越高,對于溫濕度波動的要求也就越高,要求溫濕度波動的范圍也就越小。例如在一些大規(guī)模集成電路的光刻曝光工藝中,直接只有一百微米的材料,如果環(huán)境溫度與要求直接相差了一度,就會造成材料零點幾微米的偏差,在這種高精度要求的無塵室中就是很嚴重的生產(chǎn)事故。所以,這種工藝甚至是需求溫差保持在正負零點五攝氏度之間的。
另外,一些高精度的產(chǎn)品對于濕度的要求也很嚴格。在一些電子元件的生產(chǎn)中,空氣的潮濕會直接影響到芯片的質(zhì)量。而在大部分的硅類產(chǎn)品無塵室濕度的范圍被嚴格規(guī)定在了30-45%之間。
總得來說,產(chǎn)品的加工精度越高,對于溫濕度波動的要求也就越高,要求溫濕度波動的范圍也就越小。例如在一些大規(guī)模集成電路的光刻曝光工藝中,直接只有一百微米的材料,如果環(huán)境溫度與要求直接相差了一度,就會造成材料零點幾微米的偏差,在這種高精度要求的無塵室中就是很嚴重的生產(chǎn)事故。所以,這種工藝甚至是需求溫差保持在正負零點五攝氏度之間的。
另外,一些高精度的產(chǎn)品對于濕度的要求也很嚴格。在一些電子元件的生產(chǎn)中,空氣的潮濕會直接影響到芯片的質(zhì)量。而在大部分的硅類產(chǎn)品無塵室濕度的范圍被嚴格規(guī)定在了30-45%之間。